日 DNP, 2나노 EUV 노광용 포토마스크 제조공정 개발 본격 개시

[테크월드뉴스=박규찬 기자] 일본의 DNP(다이닛폰 인쇄)는 반도체 제조의 최첨단 프로세스 제조에 사용되는 EUV 리소그래피에 대응하는 2나노 세대의 로직 반도체용 포토마스크 제조 프로세스 개발을 본격 개시했다고 지난 28일 발표했다.

아울러 라피더스가 참가하고 있는 신에너지·산업기술종합개발기구(NEDO)의 ‘포스트5G정보통신시스템 기반강화연구개발사업’에 재위탁처로 참가해 제조 프로세스 및 보증에 관련된 기술 제공에도 동의한 것으로 나타났다.

이미 DNP는 멀티전자빔(EB) 마스크 드로잉 장치 도입 등을 통해 지난 2023년 3나노 세대 EUV 리소그래피용 포토마스크 제조 프로세스 개발을 완료한 바 있다.

이번 발표에서는 2024년 내 2대째 및 3대째의 멀티 EB 마스크 드로잉 장치를 가동시킴으로써 2나노 세대의 EUV 리소용 포토마스크 제조 프로세스 개발을 본격화시켜 2025년까지 개발 완료시킨다는 계획이다.

또 2026년 이후에는 2027년도의 라피더스 양산 개시 계획에 맞춰 생산 기술의 확립을 추진해 나갈 예정이다.

한편 DNP는 2나노 이후의 미세 프로세스 실현을 위해 벨기에 imec와 차세대 EUV 포토마스크의 공동 개발에 관한 계약도 체결했으며 국제적인 반도체 산업에서 다양한 파트너와 제휴 개발을 추진해 나가고 있다.